| 采购单位: |
深圳大学 |
| 项目名称: |
介质刻蚀及镀膜系统 |
| 预算金额（元）: |
7,300,000.000 |
| 采购品目: |
真空应用设备 |
| 采购需求概况: |
介质刻蚀该设备采用感应耦合等离子体（ICP）方式产生高密度等离子体，实现对硅、介质材料和有机材料的选择性干法刻蚀。电子束蒸发设备用于镀制各种金属和非金属单层膜、多层膜。主要用于制备纳米器件、有机光电器件的金属电极，以及制备用于生长纳米材料的各类薄膜层。 |
| 联系人: |
韩老师 |
| 联系电话: |
15073136091 |
| 预计采购时间: |
2024-09 |
| 备注: |
无 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准
源网址：http://zfcg.szggzy.com:8081/gsgg/002001/002001001/002001001002/20240829/c3216554-8be4-42bb-bcf3-d477626e84b4.html
