一、采购单位：机电与控制工程学院

二、项目名称：紫外光刻机

三、公开信息：

1.设备名称：紫外光刻机

2.数量：1

3.关键技术指标：曝光面积：160mm×160mm 曝光波长：365nm； 分辨力：≤0.8μm； 对准精度：±1 μm； 对准系统扫描台运动范围至少满足： Y:10mm；X：±40um（数字设定） 掩模尺寸2.5寸，3寸，4寸，5寸，7英寸 （其他尺寸可定制）； 样片尺寸：碎片，2寸， 3寸，4寸，6英寸（其他尺寸可定制）； 适应样品厚度：0.5-6mm，最大可支持20mm的样片（定制）； 曝光方式：定时（倒计时方式）； 照明不均匀性：＜3%； 掩模相对于样片运动行程至少满足：X: ±5mm; Y: ±5mm; q: ±6?； 曝光能量密度：>30mW/cm? 对准位和曝光位双工位工作，双工位伺服电机自动切换； 调平接触压力通过传感器保证重复性； 可数字设定对准间隙和曝光间隙，0-500μm数值化可调； 具备纳米压印接口，也具备接近式接口 触摸屏操作

4.预算金额：195,000.00 元

5.成交供应商：中国科学院光电技术研究所

6.成交价格：195,000.00 元

机电与控制工程学院

2023年04月10日